Пропуск в контексте

Chemical Vapour Deposition

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главные авторы: Xu Y., Yan X.-T
Формат: Книга
Опубликовано: НБ СевКавГТУ
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
LEADER 01135nam a2200253 i 4500
001 F.NCFU.000029.04A90D
005 20100929100148.0
010 |a 978-1-84882-893-3 
100 |a 20100927d2010 u y0rusy50 02 ba 
101 0 |a eng 
105 |a a z  
200 1 |a Chemical Vapour Deposition  |e An Integrated engineering Design for Advanced Materials  |f Yongdong Xu, Xiu-Tian Yan 
210 |c Springer  |d 2010 
215 |a 341 p.  |c il. 
541 1 |a Химическое смещение пара: Интегрированное инженерное проектирование для современных материалов 
606 |a пар  |x английский язык  |x химическое смещение 
606 |a материалы  |x инженерное проектирование 
606 |a английский язык  |x пар  |x термодинамика  |x материалы 
686 |2 ББК  |a 42-93:54 
700 1 |a Xu  |b Y.  |g Yongdong 
701 1 |a Yan  |b X.-T.  |g Xiu-Tian 
801 1 |a RU  |b НБ СевКавГТУ  |c 20100927 
801 0 |a RU  |b НБ СевКавГТУ  |c 20100927  |g rcr 
899 |h 42-93:54  |i X 83