İçeriği atla

Тонкопленочные гетерокомпозиции на основе карбида кремния. Раздел: Физико-технологические основы получения гетероструктур учебно-методическое пособие

Рассматриваются основные возможности различных методов и способов для получения тонких слоев карбида кремния на различных подложках для создания устройств экстремальной электроники. Основное внимание уделяется методам формирования микро- и наноразмерных слоев на основе карбида кремния с различной кр...

Ful tanımlama

Kaydedildi:
Detaylı Bibliyografya
Materyal Türü: Книга
Konular:
Online Erişim:Перейти к просмотру издания
Etiketler: Etiketle
Etiket eklenmemiş, İlk siz ekleyin!
LEADER 04106nam0a2200385 4500
001 RU/IPR SMART/116427
856 4 |u https://www.iprbookshop.ru/116427.html  |z Перейти к просмотру издания 
801 1 |a RU  |b IPR SMART  |c 20240904  |g RCR 
010 |a 978-5-7262-2422-0 
205 |a Тонкопленочные гетерокомпозиции на основе карбида кремния. Раздел: Физико-технологические основы получения гетероструктур  |b 2026-11-12 
333 |a Лицензия до 12.11.2026 
100 |a 20240904d2018 k y0rusy01020304ca 
105 |a y j 000zy 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Тонкопленочные гетерокомпозиции на основе карбида кремния. Раздел: Физико-технологические основы получения гетероструктур  |e учебно-методическое пособие  |f Г. Д. Кузнецов, Г. К. Сафаралиев, М. Н. Стриханов [и др.] 
701 1 |a Кузнецов,   |b Г. Д.  |4 070 
701 1 |a Сафаралиев,   |b Г. К.  |4 070 
701 1 |a Стриханов,   |b М. Н.  |4 070 
701 1 |a Каргин,   |b Н. И.  |4 070 
701 1 |a Харламов,   |b Н. А.  |4 070 
330 |a Рассматриваются основные возможности различных методов и способов для получения тонких слоев карбида кремния на различных подложках для создания устройств экстремальной электроники. Основное внимание уделяется методам формирования микро- и наноразмерных слоев на основе карбида кремния с различной кристаллографической структурой – химическому осаждению из газовой фазы, осаждению из жидкой фазы и сублимации. Основной акцент делается на возможности использования энергетического взаимодействия на границы раздела фаз для активирования процессов образования слоев – импульсного лазерного и ионно-плазменного. Рассматривается уточненная классификация методов и способов получения тонких слоев и гетероструктур на основе карбида кремния, основанная преимущественно на физических или химических процессах на границе фазообразования. Приводятся и анализируются базовые параметры и свойства полупроводникового карбида кремния, твердых растворов SiC-III-нитриды, включая полиморфизм. Предназначено для бакалавров, магистров, инженеров, аспирантов и научных работников, специализирующихся в области экстремальной электроники. 
210 |a Москва  |c Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»  |d 2018 
610 1 |a тонкопленочная гетерокомпозиция 
610 1 |a карбид кремния 
610 1 |a гетероструктура 
675 |a 539.216 
686 |a 22.379  |2 rubbk 
300 |a Книга находится в премиум-версии IPR SMART. 
106 |a s 
230 |a Электрон. дан. (1 файл) 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
503 0 |a Доступна эл. версия. IPR SMART 
215 |a 148 с.