Пропуск в контексте

Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением

Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кисл...

Полное описание

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главный автор: Берлин, Б. В. (070)
Формат: Книга
Темы:
Online-ссылка:Перейти к просмотру издания
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
LEADER 04981nam0a2200361 4500
001 RU/IPR SMART/31877
856 4 |u https://www.iprbookshop.ru/31877.html  |z Перейти к просмотру издания 
801 1 |a RU  |b IPR SMART  |c 20250903  |g RCR 
010 |a 978-5-94836-369-1 
205 |a Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением  |b 2030-03-03 
333 |a Гарантированный срок размещения в ЭБС до 03.03.2030 (автопролонгация) 
100 |a 20250903d2014 k y0rusy01020304ca 
105 |a y j 000zy 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением  |f Б. В. Берлин, Л. А. Сейдман 
700 1 |a Берлин,   |b Б. В.  |4 070 
701 1 |a Сейдман,   |b Л. А.  |4 070 
330 |a Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций. 
210 |a Москва  |c Техносфера  |d 2014 
610 1 |a тонкая пленка 
610 1 |a реактивное распыление 
610 1 |a магнетронное распыление 
610 1 |a нанесение покрытия 
675 |a 621.78 
686 |a 34.65  |2 rubbk 
300 |a Книга находится в премиум-версии IPR SMART. 
106 |a s 
230 |a Электрон. дан. (1 файл) 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
503 0 |a Доступна эл. версия. IPR SMART 
215 |a 256 с.