Пропуск в контексте

Ионно-плазменная обработка материалов курс лекций

В курсе лекций рассматриваются основные ионно-плазменные процессы в технологии микро- и наноэлектроники. Приводится классификация процессов травления и осаждения тонких пленок материалов электронной техники и гетероструктур на их основе. Рассматриваются особенности селективного и анизотропного травл...

Полное описание

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главный автор: Кузнецов, Г. Д. (070)
Формат: Книга
Темы:
Online-ссылка:Перейти к просмотру издания
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
LEADER 03595nam0a2200349 4500
001 RU/IPR SMART/56059
856 4 |u https://www.iprbookshop.ru/56059.html  |z Перейти к просмотру издания 
801 1 |a RU  |b IPR SMART  |c 20250903  |g RCR 
010 |a 2227-8397 
205 |a Ионно-плазменная обработка материалов  |b 2027-03-01 
333 |a Гарантированный срок размещения в ЭБС до 01.03.2027 (автопролонгация) 
100 |a 20250903d2008 k y0rusy01020304ca 
105 |a y j 000zy 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Ионно-плазменная обработка материалов  |e курс лекций  |f Г. Д. Кузнецов, А. Р. Кушхов 
700 1 |a Кузнецов,   |b Г. Д.  |4 070 
701 1 |a Кушхов,   |b А. Р.  |4 070 
330 |a В курсе лекций рассматриваются основные ионно-плазменные процессы в технологии микро- и наноэлектроники. Приводится классификация процессов травления и осаждения тонких пленок материалов электронной техники и гетероструктур на их основе. Рассматриваются особенности селективного и анизотропного травления наноразмерных слоистых материалов при различных способах вакуум-плазменных процессов. Обсуждаются проблемы получения химически чистой поверхности подложек, а также возможные случаи повреждения и изменения шероховатости приповерхностного слоя. Анализируются возможности ионного синтеза и кристаллизации пленок при различных условиях ионного воздействия на поверхность обрабатываемого материала. Приводятся примеры использования ионно-плазменных процессов для создания элементов микро- и наноэлектроники. Курс лекций подготовлен по рекомендации горно-металлургической секции РАЕН. Содержание соответствует государственному образовательному стандарту по направлению «Электроника и микроэлектроника». Предназначено для студентов (бакалавров и магистров), обучающихся по направлениям 210100 «Электроника и микроэлектроника», 210600 «Нанотехнология». 
210 |a Москва  |c Издательский Дом МИСиС  |d 2008 
610 1 |a электроника 
610 1 |a ионная обработка 
610 1 |a плазменная обработка 
675 |a 62 
686 |a 32.85  |2 rubbk 
300 |a Книга находится в премиум-версии IPR SMART. 
106 |a s 
230 |a Электрон. дан. (1 файл) 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
503 0 |a Доступна эл. версия. IPR SMART 
215 |a 180 с.