Пропуск в контексте

Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами курс лекций

Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, кот...

תיאור מלא

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי: Юрчук, С. Ю. (070)
פורמט: Книга
נושאים:
גישה מקוונת:Перейти к просмотру издания
תגים: הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
תיאור
תיאור פיזי:Книга находится в премиум-версии IPR SMART.
ISBN:978-5-87623-662-3