Saltar al contenido

Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами курс лекций

Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, кот...

Descripción completa

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor principal: Юрчук, С. Ю. (070)
Formato: Книга
Materias:
Acceso en línea:Перейти к просмотру издания
Etiquetas: Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!