Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
में बचाया:
मुख्य लेखक: | Берлин, Е. В. (070) |
---|---|
स्वरूप: | Книга |
विषय: | |
ऑनलाइन पहुंच: | Перейти к просмотру издания |
टैग : |
टैग जोड़ें
कोई टैग नहीं, इस रिकॉर्ड को टैग करने वाले पहले व्यक्ति बनें!
|
समान संसाधन
-
Основы физики плазмы
द्वारा: Голант В. Е.
प्रकाशित: (2022) -
Двухжидкостная электромагнитная гидродинамика
द्वारा: Гавриков М. Б. -
Теория плазмы
द्वारा: Рожанский В. А.
प्रकाशित: (2022) -
Физические основы электрического пробоя газов
द्वारा: Дьяков А. Ф., और अन्य -
Лекции по физике плазмы. Том 1. Основы физики плазмы учебное пособие для вузов
द्वारा: Котельников И. А.
प्रकाशित: (2023)