Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Wedi'i Gadw mewn:
Prif Awdur: | Берлин, Е. В. (070) |
---|---|
Fformat: | Книга |
Pynciau: | |
Mynediad Ar-lein: | Перейти к просмотру издания |
Tagiau: |
Ychwanegu Tag
Dim Tagiau, Byddwch y cyntaf i dagio'r cofnod hwn!
|
Eitemau Tebyg
-
Основы физики плазмы
gan: Голант В. Е.
Cyhoeddwyd: (2022) -
Двухжидкостная электромагнитная гидродинамика
gan: Гавриков М. Б. -
Теория плазмы
gan: Рожанский В. А.
Cyhoeddwyd: (2022) -
Физические основы электрического пробоя газов
gan: Дьяков А. Ф., et al. -
Лекции по физике плазмы. Том 1. Основы физики плазмы учебное пособие для вузов
gan: Котельников И. А.
Cyhoeddwyd: (2023)