Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Сохранить в:
Hovedforfatter: | Берлин, Е. В. (070) |
---|---|
Format: | Книга |
Fag: | |
Online adgang: | Перейти к просмотру издания |
Tags: |
Tilføj Tag
Ingen Tags, Vær først til at tagge denne postø!
|
Lignende værker
-
Основы физики плазмы
af: Голант В. Е.
Udgivet: (2022) -
Двухжидкостная электромагнитная гидродинамика
af: Гавриков М. Б. -
Теория плазмы
af: Рожанский В. А.
Udgivet: (2022) -
Физические основы электрического пробоя газов
af: Дьяков А. Ф., и др. -
Лекции по физике плазмы. Том 1. Основы физики плазмы учебное пособие для вузов
af: Котельников И. А.
Udgivet: (2023)