Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Книга |
| Subjects: | |
| Online Access: | Перейти к просмотру издания |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
