Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Guardado en:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Книга |
| Materias: | |
| Acceso en línea: | Перейти к просмотру издания |
| Etiquetas: |
Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!
|
