Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Gorde:
Egile nagusia: | Берлин, Е. В. (070) |
---|---|
Formatua: | Книга |
Gaiak: | |
Sarrera elektronikoa: | Перейти к просмотру издания |
Etiketak: |
Etiketa erantsi
Etiketarik gabe, Izan zaitez lehena erregistro honi etiketa jartzen!
|
Antzeko izenburuak
-
Основы физики плазмы
nork: Голант В. Е.
Argitaratua: (2022) -
Двухжидкостная электромагнитная гидродинамика
nork: Гавриков М. Б. -
Теория плазмы
nork: Рожанский В. А.
Argitaratua: (2022) -
Физические основы электрического пробоя газов
nork: Дьяков А. Ф., et al. -
Лекции по физике плазмы. Том 1. Основы физики плазмы учебное пособие для вузов
nork: Котельников И. А.
Argitaratua: (2023)