Joan edukira

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...

Deskribapen osoa

Gorde:
Xehetasun bibliografikoak
Egile nagusia: Берлин, Е. В. (070)
Formatua: Книга
Gaiak:
Sarrera elektronikoa:Перейти к просмотру издания
Etiketak: Etiketa erantsi
Etiketarik gabe, Izan zaitez lehena erregistro honi etiketa jartzen!

Antzeko izenburuak