Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Tallennettuna:
| Päätekijä: | |
|---|---|
| Aineistotyyppi: | Книга |
| Aiheet: | |
| Linkit: | Перейти к просмотру издания |
| Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
