Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Enregistré dans:
| Auteur principal: | |
|---|---|
| Format: | Книга |
| Sujets: | |
| Accès en ligne: | Перейти к просмотру издания |
| Tags: |
Ajouter un tag
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
