Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Պահպանված է:
Հիմնական հեղինակ: | Берлин, Е. В. (070) |
---|---|
Ձևաչափ: | Книга |
Խորագրեր: | |
Առցանց հասանելիություն: | Перейти к просмотру издания |
Ցուցիչներ: |
Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|
Նմանատիպ նյութեր
-
Основы физики плазмы
: Голант В. Е.
Հրապարակվել է: (2022) -
Двухжидкостная электромагнитная гидродинамика
: Гавриков М. Б. -
Теория плазмы
: Рожанский В. А.
Հրապարակվել է: (2022) -
Физические основы электрического пробоя газов
: Дьяков А. Ф., և այլն -
Лекции по физике плазмы. Том 1. Основы физики плазмы учебное пособие для вузов
: Котельников И. А.
Հրապարակվել է: (2023)