Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
保存先:
第一著者: | Берлин, Е. В. (070) |
---|---|
フォーマット: | Книга |
主題: | |
オンライン・アクセス: | Перейти к просмотру издания |
タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|
類似資料
-
Основы физики плазмы
著者:: Голант В. Е.
出版事項: (2022) -
Двухжидкостная электромагнитная гидродинамика
著者:: Гавриков М. Б. -
Теория плазмы
著者:: Рожанский В. А.
出版事項: (2022) -
Физические основы электрического пробоя газов
著者:: Дьяков А. Ф., 等 -
Лекции по физике плазмы. Том 1. Основы физики плазмы учебное пособие для вузов
著者:: Котельников И. А.
出版事項: (2023)