Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Bewaard in:
| Hoofdauteur: | |
|---|---|
| Formaat: | Книга |
| Onderwerpen: | |
| Online toegang: | Перейти к просмотру издания |
| Tags: |
Voeg label toe
Geen labels, Wees de eerste die dit record labelt!
|
