Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Na minha lista:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Книга |
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | Перейти к просмотру издания |
| Tags: |
Adicionar Tag
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!
|
