Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Shranjeno v:
| Glavni avtor: | |
|---|---|
| Format: | Книга |
| Teme: | |
| Online dostop: | Перейти к просмотру издания |
| Oznake: |
Označite
Brez oznak, prvi označite!
|
