Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Sparad:
Huvudupphovsman: | Берлин, Е. В. (070) |
---|---|
Materialtyp: | Книга |
Ämnen: | |
Länkar: | Перейти к просмотру издания |
Taggar: |
Lägg till en tagg
Inga taggar, Lägg till första taggen!
|
Liknande verk
-
Основы физики плазмы
av: Голант В. Е.
Publicerad: (2022) -
Двухжидкостная электромагнитная гидродинамика
av: Гавриков М. Б. -
Теория плазмы
av: Рожанский В. А.
Publicerad: (2022) -
Физические основы электрического пробоя газов
av: Дьяков А. Ф., et al. -
Лекции по физике плазмы. Том 1. Основы физики плазмы учебное пособие для вузов
av: Котельников И. А.
Publicerad: (2023)