Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Kaydedildi:
Yazar: | Берлин, Е. В. (070) |
---|---|
Materyal Türü: | Книга |
Konular: | |
Online Erişim: | Перейти к просмотру издания |
Etiketler: |
Etiketle
Etiket eklenmemiş, İlk siz ekleyin!
|
Benzer Materyaller
-
Основы физики плазмы
Yazar:: Голант В. Е.
Baskı/Yayın Bilgisi: (2022) -
Двухжидкостная электромагнитная гидродинамика
Yazar:: Гавриков М. Б. -
Теория плазмы
Yazar:: Рожанский В. А.
Baskı/Yayın Bilgisi: (2022) -
Физические основы электрического пробоя газов
Yazar:: Дьяков А. Ф., ve diğerleri -
Лекции по физике плазмы. Том 1. Основы физики плазмы учебное пособие для вузов
Yazar:: Котельников И. А.
Baskı/Yayın Bilgisi: (2023)