Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Đã lưu trong:
| Tác giả chính: | |
|---|---|
| Định dạng: | Книга |
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | Перейти к просмотру издания |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
