Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Сохранить в:
| 主要作者: | |
|---|---|
| 格式: | Книга |
| 主題: | |
| 在線閱讀: | Перейти к просмотру издания |
| 標簽: |
添加標簽
沒有標簽, 成為第一個標記此記錄!
|
