Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Сохранить в:
| 主要作者: | |
|---|---|
| 格式: | Книга |
| 主题: | |
| 在线阅读: | Перейти к просмотру издания |
| 标签: |
添加标签
没有标签, 成为第一个标记此记录!
|
