Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| التنسيق: | Книга |
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | Перейти к просмотру издания |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|