Пропуск в контексте

Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозиций учебно-методическое пособие

Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ΑIIIΒV и их твердых растворов, применяемого оборудова...

Полное описание

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главный автор: Кожитов, Л. В. (070)
Формат: Книга
Темы:
Online-ссылка:Перейти к просмотру издания
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
LEADER 03605nam0a2200385 4500
001 RU/IPR SMART/98133
856 4 |u https://www.iprbookshop.ru/98133.html  |z Перейти к просмотру издания 
801 1 |a RU  |b IPR SMART  |c 20250903  |g RCR 
010 |a 2227-8397 
205 |a Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозиций  |b 2025-12-16 
333 |a Гарантированный срок размещения в ЭБС до 16.12.2025 (автопролонгация) 
100 |a 20250903d2001 k y0rusy01020304ca 
105 |a y j 000zy 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозиций  |e учебно-методическое пособие  |f Л. В. Кожитов, В. В. Крапухин, В. А. Улыбин 
700 1 |a Кожитов,   |b Л. В.  |4 070 
701 1 |a Крапухин,   |b В. В.  |4 070 
701 1 |a Улыбин,   |b В. А.  |4 070 
330 |a Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ΑIIIΒV и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеров-технологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов. 
210 |a Москва  |c Издательский Дом МИСиС  |d 2001 
610 1 |a микроэлектроника 
610 1 |a гетерокомпозиция 
610 1 |a парофазная эпитаксия 
610 1 |a твердотельная электроника 
610 1 |a жидкофазная эпитаксия 
675 |a 62 
686 |a 32.85  |2 rubbk 
300 |a Книга находится в премиум-версии IPR SMART. 
106 |a s 
230 |a Электрон. дан. (1 файл) 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
503 0 |a Доступна эл. версия. IPR SMART 
215 |a 157 с.