Пропуск в контексте

Наноразмерные ионно-легированные структуры арсенида галлия для твердотельных СВЧ устройств учебное пособие

Ионная имплантация арсенида галлия позволяет изготавливать наноразмерные локальные активные, резистивные и изолирующие области в монокристаллическом и эпитаксиальном арсениде галлия в промышленной установке ионного легирования, где осуществляется изготовление элементов ИС СВЧ. Учебное пособие посвящ...

Полное описание

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главный автор: Перинский, В. В. (070)
Формат: Книга
Темы:
Online-ссылка:Перейти к просмотру издания
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
LEADER 04066nam0a2200385 4500
001 RU/IPR SMART/99260
856 4 |u https://www.iprbookshop.ru/99260.html  |z Перейти к просмотру издания 
801 1 |a RU  |b IPR SMART  |c 20250903  |g RCR 
010 |a 978-5-7433-3318-9 
205 |a Наноразмерные ионно-легированные структуры арсенида галлия для твердотельных СВЧ устройств  |b 2030-08-31 
333 |a Лицензия до 31.08.2030 
100 |a 20250903d2019 k y0rusy01020304ca 
105 |a y j 000zy 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Наноразмерные ионно-легированные структуры арсенида галлия для твердотельных СВЧ устройств  |e учебное пособие  |f В. В. Перинский, И. В. Перинская, С. Г. Калганова 
700 1 |a Перинский,   |b В. В.  |4 070 
701 1 |a Перинская,   |b И. В.  |4 070 
701 1 |a Калганова,   |b С. Г.  |4 070 
330 |a Ионная имплантация арсенида галлия позволяет изготавливать наноразмерные локальные активные, резистивные и изолирующие области в монокристаллическом и эпитаксиальном арсениде галлия в промышленной установке ионного легирования, где осуществляется изготовление элементов ИС СВЧ. Учебное пособие посвящено разработке физических основ и технике ионно-лучевой технологии микроприборов сверхвысоких частот на арсениде галлия, особенностям применения ускоренных ионов серы, селена, гелия, водорода при создании наноразмерных активных, изолирующих областей в монокристаллическом арсениде галлия и его эпитаксиальных структурах; проблеме качества полупроводниковых структур арсенида галлия; роли процессов кластеризации в технологии ионного легирования и изоляции. Книга предназначена магистрантам, занимающимся исследованиями в области технологии полупроводников АIIIВV для твердотельной СВЧ микроэлектроники, а также студентам, обучающимся по направлению «Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро-и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах» в соответствии с программой подготовки специалистов высшей квалификации для предприятий твердотельной СВЧ электроники. 
210 |a Саратов  |c Саратовский государственный технический университет имени Ю.А. Гагарина, ЭБС АСВ  |d 2019 
610 1 |a физика 
610 1 |a наноконструирование 
610 1 |a кластеризация 
610 1 |a ионное легирование 
610 1 |a корреляция 
675 |a 539.1 
686 |a 22.3  |2 rubbk 
300 |a Книга находится в премиум-версии IPR SMART. 
106 |a s 
230 |a Электрон. дан. (1 файл) 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
503 0 |a Доступна эл. версия. IPR SMART 
215 |a 123 с.