Effect of coating thickness on the growth rates, optical properties and microstructure of TiO2 thin films grown via thermal and plasma enhanced atomic layer deposition
Titanium dioxide (TiO2) thin films were synthesized on single-crystalline silicon (111) substrates using thermal (TALD) and plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) methods in a self-limited growth regime with different numbers of deposition cycles (250, 500, 750, 1000, 1500 and 2000). The sy...
Сохранить в:
| Главные авторы: | , , , , , |
|---|---|
| Формат: | Статья |
| Язык: | English |
| Опубликовано: |
Elsevier B.V.
2025
|
| Темы: | |
| Online-ссылка: | https://dspace.ncfu.ru/handle/123456789/31080 |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
