Przejdź do treści

Influence of argon pressure on the surface morphology of thin InGaAsP/Si films

The thin films of InGaAsP/Si were obtained by pulsed laser deposition at different argon pressures. The InGaAsP/Si films obtained at an argon pressure of 10 Pa have the highest roughness, and the smallest are films obtained in a vacuum. In PLD in argon, atoms are scattered on the substrate at differ...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Devitsky, O. V., Девицкий, О. В.
Format: Статья
Język:English
Wydane: American Institute of Physics Inc. 2022
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/21198
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!