Przejdź do treści

Effect of nitrogen pressure on the composition and structure of thin films GaAs1 - x - yNxBiy

Thin films of GaAs1 - x - y NxBiy were deposited on a GaAs (100) substrate by pulsed laser deposition using an argon-nitrogen gas mixture at a pressure ranging from 1 to 60 Pa. The film thickness is found to decrease from 527 to 127 nm as the pressure of the argon-nitrogen gas mixture increased from...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Devitsky, O. V., Девицкий, О. В.
Format: Статья
Język:English
Wydane: 2024
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/26523
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!