Метод сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии кремния с газовым источником германия практикум
Целью данной работы является ознакомление с особенностями выращивания эпитаксиальных слоев кремния, кремний-германия методом молекулярно-лучевой эпитаксии с сублимационным источником кремния и газовым источником германия, а также знакомство с вакуумным технологическим оборудованием. Рассматривается...
שמור ב:
| פורמט: | Книга |
|---|---|
| שפה: | Russian |
| יצא לאור: |
Нижний Новгород
ННГУ им. Н. И. Лобачевского
2015
|
| גישה מקוונת: | https://e.lanbook.com/book/153137 https://e.lanbook.com/img/cover/book/153137.jpg |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|
| סיכום: | Целью данной работы является ознакомление с особенностями выращивания эпитаксиальных слоев кремния, кремний-германия методом молекулярно-лучевой эпитаксии с сублимационным источником кремния и газовым источником германия, а также знакомство с вакуумным технологическим оборудованием. Рассматривается влияние основных условий роста и технологических параметров на качество эпитаксиальных слоев. Приводится сравнение данного метода с другими методами выращивания эпитаксиальных слоев кремния и германия (газофазная эпитаксия и молекулярно-лучевая эпитаксия с испарением электронным лучом). Практикум предназначен для магистров физического факультета ННГУ, обучающихся по направлению 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника», 03.04.02 «Физика». |
|---|---|
| תאור פריט: | Рекомендовано методической комиссией физического факультета для студентов ННГУ, обучающихся по направлениям подготовки 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника», 03.04.02 «Физика» |
| תיאור פיזי: | 13 с. |
| קהל: | Книга из коллекции ННГУ им. Н. И. Лобачевского - Инженерно-технические науки |
| ביבליוגרפיה: | Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань |