Salta al contenuto

Градиентная эпитаксия для получения микро и наноструктур твердых растворов АIIIВV через тонкую газовую зону монография

В монографии представлены физико-химические основы градиентной эпитаксии (ГЭ) в газовой фазе через тонкую зону применительно к многокомпонентным соединениям АIIIВV . Приводится методика и алгоритм расчета по закономерностям роста эпитаксиальных слоев для многокомпонентных твердых растворов соединени...

Descrizione completa

Salvato in:
Dettagli Bibliografici
Autore principale: Сысоев И. А.
Altri autori: Лунин Л. С.
Natura: Книга
Lingua:Russian
Pubblicazione: Ставрополь СКФУ 2015
Accesso online:https://e.lanbook.com/book/155169
https://e.lanbook.com/img/cover/book/155169.jpg
Tags: Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne! !
Descrizione
Riassunto:В монографии представлены физико-химические основы градиентной эпитаксии (ГЭ) в газовой фазе через тонкую зону применительно к многокомпонентным соединениям АIIIВV . Приводится методика и алгоритм расчета по закономерностям роста эпитаксиальных слоев для многокомпонентных твердых растворов соединений АIIIВV . Обсуждаются возможности получения различных микро- и наноструктур соединений АIIIВV с помощью ГЭ через газовую зону. Рассмотрено влияние различных технологических параметров (температура, температурный градиент, толщина зазора между источником и подложкой и т. д.) на свойства получаемых гетероструктур. Монография адресована магистрам, асптирантам и преподавателям, а также исследователям, работающими в области технологии полупроводниковых материалов соединений А3В5 с микро- и наноструктурой.
Descrizione fisica:97 с.
Pubblico:Книга из коллекции СКФУ - Физика
Bibliografia:Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань
ISBN:978-5-9296-0785-1