Пропуск в контексте

Градиентная эпитаксия для получения микро и наноструктур твердых растворов АIIIВV через тонкую газовую зону монография

В монографии представлены физико-химические основы градиентной эпитаксии (ГЭ) в газовой фазе через тонкую зону применительно к многокомпонентным соединениям АIIIВV . Приводится методика и алгоритм расчета по закономерностям роста эпитаксиальных слоев для многокомпонентных твердых растворов соединени...

Fuld beskrivelse

Сохранить в:
Bibliografiske detaljer
Hovedforfatter: Сысоев И. А.
Andre forfattere: Лунин Л. С.
Format: Книга
Sprog:Russian
Udgivet: Ставрополь СКФУ 2015
Online adgang:https://e.lanbook.com/book/155169
https://e.lanbook.com/img/cover/book/155169.jpg
Tags: Tilføj Tag
Ingen Tags, Vær først til at tagge denne postø!
Beskrivelse
Summary:В монографии представлены физико-химические основы градиентной эпитаксии (ГЭ) в газовой фазе через тонкую зону применительно к многокомпонентным соединениям АIIIВV . Приводится методика и алгоритм расчета по закономерностям роста эпитаксиальных слоев для многокомпонентных твердых растворов соединений АIIIВV . Обсуждаются возможности получения различных микро- и наноструктур соединений АIIIВV с помощью ГЭ через газовую зону. Рассмотрено влияние различных технологических параметров (температура, температурный градиент, толщина зазора между источником и подложкой и т. д.) на свойства получаемых гетероструктур. Монография адресована магистрам, асптирантам и преподавателям, а также исследователям, работающими в области технологии полупроводниковых материалов соединений А3В5 с микро- и наноструктурой.
Fysisk beskrivelse:97 с.
Publikum:Книга из коллекции СКФУ - Физика
Bibliografi:Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань
ISBN:978-5-9296-0785-1