Постростовые технологии создания функциональных микро- и наноструктур
Современные нанотехнологии давно нашли свое применение в области создания лазерных и светодиодных структур, фотоэлектрических преобразователей, элементов оптоэлектроники и нанофотоники. Одним из наиболее ярких примеров их использования является развитие микропроцессорной техники, где произошло умень...
Сохранить в:
| Главный автор: | |
|---|---|
| Другие авторы: | , |
| Формат: | Книга |
| Язык: | Russian |
| Опубликовано: |
Санкт-Петербург
СПбАУ РАН им. Ж.И. Алфёрова
2021
|
| Online-ссылка: | https://e.lanbook.com/book/250505 https://e.lanbook.com/img/cover/book/250505.jpg |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
| Краткое описание: | Современные нанотехнологии давно нашли свое применение в области создания лазерных и светодиодных структур, фотоэлектрических преобразователей, элементов оптоэлектроники и нанофотоники. Одним из наиболее ярких примеров их использования является развитие микропроцессорной техники, где произошло уменьшение ширины затворов транзисторов с единиц микрометров до нескольких десятков нанометров. Это привело к значительному увеличению их быстродействия, увеличению плотности расположения в интегральной схеме и к снижению энергопотребления. Для создания функциональных наноструктур нового поколения требуется дальнейшее развитие постростовых методов на основе новых технологий, новых материалов и подходов, а также подготовки высококвалифицированных специалистов в этой области. В пособии рассматриваются наиболее распространенные методы создания микро- и наноструктур с упором на применение в области микро- и наноэлектроники, в том числе в привязке к современным транзисторным структурам. Отдельное внимание уделено различным методам оптической литографии, а также факторам, влияющим на ее пространственное разрешение. Выявлены области применения и рассмотрены фундаментальное ограничения фотолитографии при создании наноструктур в условиях исследовательской лаборатории. Представлено детальное обсуждение, анализ возможностей и ограничений электронной литографии, используемой для создания наноструктур с пространственным разрешением менее 10 нм, в том числе на непроводящих подложках. Последняя глава посвящена обзору физико-технических основ и приборной реализации методов газофазного осаждения полупроводниковых и диэлектрических слоев. Представленное пособие является методическим материалом, предназначенным бакалаврам старших курсов и магистрам, проходящим обучение по таким направлениям и профилям, как: «Физика и техника полупроводников», «Физическая электроника», «Физические принципы аналитического приборостроения», «Физика нанотехнологий и наноразмерных структур», «Радиофизика и электроника», «Физическая оптика и квантовая электроника» и др. |
|---|---|
| Объем: | 64 с. |
| Аудитория: | Книга из коллекции СПбАУ РАН им. Ж.И. Алфёрова - Нанотехнологии |
| Библиография: | Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань |
| ISBN: | 978-5-91155-110-0 |