Saltar ao contenido

Введение в технологию материалов микроэлектроники. В 3 частях. Часть 3. Эпитаксиальный рост учебник для вузов

Представлены основные виды эпитаксиальных технологий. Рассмотрено конструктивное оформление и основные параметры наиболее распространенных видов эпитаксиального роста. Сформулированы требования к эпитаксиальным подложкам и описаны основные этапы их подготовки для эпитаксии. Рассмотрены особенности з...

Descrición completa

Gardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor Principal: Александрова О. А.
Outros autores: Лебедев А. О., Мараева Е. В.
Formato: Книга
Idioma:Russian
Publicado: Санкт-Петербург Лань 2023
Темы:
Acceso en liña:https://e.lanbook.com/book/302363
https://e.lanbook.com/img/cover/book/302363.jpg
Метки: Engadir etiqueta
Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!