Основы технологии электронной компонентной базы учеб. пособие
Рассмотрены основные технологические операции создания активных элементов кремниевых ИС, химическая и плазмохимическая обработка кремния, введение примесей в кремний, методы формирования диэлектрических слоев, литография, создание контактов и металлических соединений. Для студентов (бакалавров, спец...
Bewaard in:
Hoofdauteur: | |
---|---|
Andere auteurs: | , |
Formaat: | Книга |
Taal: | Russian |
Gepubliceerd in: |
Москва
МИЭТ
2022
|
Online toegang: | https://e.lanbook.com/book/324848 https://e.lanbook.com/img/cover/book/324848.jpg |
Tags: |
Voeg label toe
Geen labels, Wees de eerste die dit record labelt!
|
LEADER | 01816nam0a2200289 i 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | 324848 | ||
003 | RuSpLAN | ||
005 | 20240216150942.0 | ||
008 | 240216s2022 ru gs 000 0 rus | ||
020 | |a 978-5-7256-0991-2 | ||
040 | |a RuSpLAN | ||
041 | 0 | |a rus | |
044 | |a ru | ||
080 | |a 621.382.049.77(075.8) | ||
245 | 0 | 0 | |a Основы технологии электронной компонентной базы |b учеб. пособие |c Голишников А. А.,Сагунова И. В.,Шевяков В. И. |
260 | |a Москва |b МИЭТ |c 2022 | ||
300 | |a 268 с. | ||
504 | |a Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань | ||
520 | 8 | |a Рассмотрены основные технологические операции создания активных элементов кремниевых ИС, химическая и плазмохимическая обработка кремния, введение примесей в кремний, методы формирования диэлектрических слоев, литография, создание контактов и металлических соединений. Для студентов (бакалавров, специалистов, магистров), изучающих основы технологии изготовления ИС. | |
521 | 8 | |a Книга из коллекции МИЭТ - Инженерно-технические науки | |
521 | 8 | |a СЭБ | |
100 | 1 | |a Голишников А. А. | |
700 | 1 | |a Сагунова И. В. | |
700 | 1 | |a Шевяков В. И. | |
856 | 4 | |u https://e.lanbook.com/book/324848 | |
856 | 4 | 8 | |u https://e.lanbook.com/img/cover/book/324848.jpg |
953 | |a https://e.lanbook.com/img/cover/book/324848.jpg |