Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике учеб. пособие
Рассмотрены базовые плазменные технологии и их применение в производстве ИС, МЭМС и НЭМС. Описаны процессы плазменного травления, плазмоактивируемого химического осаждения из газовой фазы, осаждения функциональных слоев магнетронным распылением и процессы плазменной иммерсионной ионной имплантации....
Сохранить в:
| Главный автор: | |
|---|---|
| Другие авторы: | |
| Формат: | Книга |
| Язык: | Russian |
| Опубликовано: |
Москва
МИЭТ
2022
|
| Online-ссылка: | https://e.lanbook.com/book/324851 https://e.lanbook.com/img/cover/book/324851.jpg |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
| Краткое описание: | Рассмотрены базовые плазменные технологии и их применение в производстве ИС, МЭМС и НЭМС. Описаны процессы плазменного травления, плазмоактивируемого химического осаждения из газовой фазы, осаждения функциональных слоев магнетронным распылением и процессы плазменной иммерсионной ионной имплантации. Для студентов, обучающихся по дисциплинам «Технология интегральных схем», «Проектирование и технология электронной компонентной базы» и «Технологические процессы наноэлектроники». |
|---|---|
| Объем: | 164 с. |
| Аудитория: | Книга из коллекции МИЭТ - Инженерно-технические науки СЭБ |
| Библиография: | Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань |
| ISBN: | 978-5-7256-0992-9 |