Пропуск в контексте

Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике учеб. пособие

Рассмотрены базовые плазменные технологии и их применение в производстве ИС, МЭМС и НЭМС. Описаны процессы плазменного травления, плазмоактивируемого химического осаждения из газовой фазы, осаждения функциональных слоев магнетронным распылением и процессы плазменной иммерсионной ионной имплантации....

Полное описание

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главный автор: Голишников А. А.
Другие авторы: Путря М. Г.
Формат: Книга
Язык:Russian
Опубликовано: Москва МИЭТ 2022
Online-ссылка:https://e.lanbook.com/book/324851
https://e.lanbook.com/img/cover/book/324851.jpg
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
LEADER 02011nam0a2200277 i 4500
001 324851
003 RuSpLAN
005 20240216150942.0
008 240216s2022 ru gs 000 0 rus
020 |a 978-5-7256-0992-9 
040 |a RuSpLAN 
041 0 |a rus 
044 |a ru 
080 |a 621.38.049.77-022.532:533.9 (075.8) 
245 0 0 |a Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике  |b учеб. пособие  |c Голишников А. А.,Путря М. Г. 
260 |a Москва  |b МИЭТ  |c 2022 
300 |a 164 с. 
504 |a Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань 
520 8 |a Рассмотрены базовые плазменные технологии и их применение в производстве ИС, МЭМС и НЭМС. Описаны процессы плазменного травления, плазмоактивируемого химического осаждения из газовой фазы, осаждения функциональных слоев магнетронным распылением и процессы плазменной иммерсионной ионной имплантации. Для студентов, обучающихся по дисциплинам «Технология интегральных схем», «Проектирование и технология электронной компонентной базы» и «Технологические процессы наноэлектроники». 
521 8 |a Книга из коллекции МИЭТ - Инженерно-технические науки 
521 8 |a СЭБ 
100 1 |a Голишников А. А. 
700 1 |a Путря М. Г. 
856 4 |u https://e.lanbook.com/book/324851 
856 4 8 |u https://e.lanbook.com/img/cover/book/324851.jpg 
953 |a https://e.lanbook.com/img/cover/book/324851.jpg