Моделирование микроэлектронных процессов и приборов на ПК методические указания к выполнению лабораторных и практических работ по дисциплине «информационные технологии в электронике» для студентов направления 11.03.04 «электроника и наноэлектроника» всех форм обучения
В методических указаниях рассматриваются методы моделирования основных технологических процессов на полупроводниковом производстве. Изучаются диффузия, ионная имплантация, кольцевой испаритель. Рассматривается расчёт биполярного транзистора с использованием двухстадийной диффузии. Для каждой работы...
Enregistré dans:
| Format: | Книга |
|---|---|
| Langue: | Russian |
| Publié: |
Воронеж
ВГТУ
2024
|
| Sujets: | |
| Accès en ligne: | https://e.lanbook.com/book/417398 https://e.lanbook.com/img/cover/book/417398.jpg |
| Tags: |
Ajouter un tag
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
| Résumé: | В методических указаниях рассматриваются методы моделирования основных технологических процессов на полупроводниковом производстве. Изучаются диффузия, ионная имплантация, кольцевой испаритель. Рассматривается расчёт биполярного транзистора с использованием двухстадийной диффузии. Для каждой работы приведен небольшой блок теории и пошаговый расчёт параметров технологического процесса. В качестве вспомогательной информации рассматриваются методы программирования на C# элементов кода, используемых при построении модели в виде оконного приложения.Предназначены для студентов направления 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника» всех профилей и форм обучения. |
|---|---|
| Description matérielle: | 57 с. |
| Public: | Книга из коллекции ВГТУ - Инженерно-технические науки СЭБ |
| Bibliographie: | Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань |