Пропуск в контексте

Моделирование технологии и параметров кремниевых наноразмерных транзисторных структур учебное пособие для вузов

Составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплине «Наноэлектронная технология». Изложены основные темы учебного материала, входящего в лекционный курс. А именно: рассмотрены вопросы математического моделирования процессов ионного внедрения примесей в кремний с испо...

全面介紹

Сохранить в:
書目詳細資料
主要作者: Воронов Ю. А.
其他作者: Касков С. Ю., Мочалкина О. Р.
格式: Книга
語言:Russian
出版: Москва НИЯУ МИФИ 2012
在線閱讀:http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=75726
https://e.lanbook.com/img/cover/book/75726.jpg
標簽: 添加標簽
沒有標簽, 成為第一個標記此記錄!
實物特徵
總結:Составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплине «Наноэлектронная технология». Изложены основные темы учебного материала, входящего в лекционный курс. А именно: рассмотрены вопросы математического моделирования процессов ионного внедрения примесей в кремний с использованием как «ручного» так и программного моделирования с помощью универсальной программы технологического моделирования T-CAD фирмы Synopsys. Представлены основные принципы работы с программой, включая списки команд, обеспечивающих моделирование технологии, электрофизических и электрических характеристик классического МДП-транзис-тора. Рассмотрены результаты моделирования наноразмерных МДП-транзисторов. Методика изложения материала позволяет студентам узнать теоретические вопросы и практически освоить основы программы T-CAD. Это первое учебное пособие по программе T-CAD на русском языке. Предназначено для студентов направлений подготовки по электронике.
Item Description:Рекомендовано УМО «Ядерные физика и технологии» в качестве учебного пособия для студентов высших учебных заведений
實物描述:80 с.
讀者:Книга из коллекции НИЯУ МИФИ - Инженерно-технические науки
參考書目:Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань
ISBN:978-5-7262-1730-7