Přeskočit na obsah

Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций учебное пособие для вузов

В пособии рассмотрены особенности различных методов получения эпитаксиальных полупроводниковых гетерокомпозиций на основе твердых растворов соединений А 3 В 5 , А 2 В 6 , А 2 В 4 , твердых растворов германий–кремний, аппаратурнометодические особенности каждого метода, их преимущества и недостатки, д...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Ратушный В. И.
Další autoři: Ермолаева Н. В., Смолин А. Ю.
Médium: Книга
Jazyk:Russian
Vydáno: Москва НИЯУ МИФИ 2012
On-line přístup:http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=75731
https://e.lanbook.com/img/cover/book/75731.jpg
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
LEADER 03506nam0a2200301 i 4500
001 75731
003 RuSpLAN
005 20221220173950.0
008 221220s2012 ru gs 000 0 rus
020 |a 978-5-7262-1589-1 
040 |a RuSpLAN 
041 0 |a rus 
044 |a ru 
080 |a 621.382(075.8) 
084 |a 22.3  |2 rubbk 
245 0 0 |a Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций  |b учебное пособие для вузов  |c Ратушный В. И.,Ермолаева Н. В.,Смолин А. Ю. 
260 |a Москва  |b НИЯУ МИФИ  |c 2012 
300 |a 200 с. 
500 |a Рекомендовано УМО «Ядерные физика и технологии» в качестве учебного пособия для студентов высших учебных заведений 
504 |a Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань 
520 8 |a В пособии рассмотрены особенности различных методов получения эпитаксиальных полупроводниковых гетерокомпозиций на основе твердых растворов соединений А 3 В 5 , А 2 В 6 , А 2 В 4 , твердых растворов германий–кремний, аппаратурнометодические особенности каждого метода, их преимущества и недостатки, дальнейшие перспективы развития и применения. Большое внимание уделено используемому технологическому оборудованию и физическим процессам, лежащим в основе каждого метода, а также методам жидкофазной эпитаксии и получению многокомпонентных твердых растворов соединений A III B V . Пособие составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплинам «Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций», «Технологии материалов электронной техники». Предназначено для организации самостоятельной работы студентов очной формы обучения по направлению подготовки 210100 – «Электроника и наноэлектроника», профиль подготовки «Микроэлектроника и твердотельная электроника», а также для аспирантов, научных сотрудников и инженеров-технологов, специализирующихся в области технологии материалов электронной техники. 
521 8 |a Книга из коллекции НИЯУ МИФИ - Инженерно-технические науки 
100 1 |a Ратушный В. И. 
700 1 |a Ермолаева Н. В. 
700 1 |a Смолин А. Ю. 
856 4 |u http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=75731 
856 4 8 |u https://e.lanbook.com/img/cover/book/75731.jpg 
953 |a https://e.lanbook.com/img/cover/book/75731.jpg