Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Uloženo v:
Hlavní autor: | Кузнецова, Е. А. |
---|---|
Médium: | ВКР |
Jazyk: | Russian |
Vydáno: |
2018
|
On-line přístup: | https://dspace.ncfu.ru:443/handle/20.500.12258/2328 |
Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
|
Podobné jednotky
-
Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Autor: Кузнецова, Е. А.
Vydáno: (2018) -
Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrate
Autor: Devitsky, O. V., a další
Vydáno: (2020) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
Autor: Tarala, V. A., a další
Vydáno: (2018) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
Autor: Tarala, V. A., a další
Vydáno: (2018) -
Schotky barrier height and calculation of voltage–current characteristics of Al/n-(SiC)1–x(AlN)x diodes And 4H–SiC heterojunctions
Autor: Altukhov, V. I., a další
Vydáno: (2020)