Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Gardado en:
Autor Principal: | Кузнецова, Е. А. |
---|---|
Formato: | ВКР |
Idioma: | Russian |
Publicado: |
2018
|
Acceso en liña: | https://dspace.ncfu.ru:443/handle/20.500.12258/2328 |
Метки: |
Engadir etiqueta
Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!
|
Títulos similares
-
Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
por: Кузнецова, Е. А.
Publicado: (2018) -
Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrate
por: Devitsky, O. V., и др.
Publicado: (2020) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
por: Tarala, V. A., и др.
Publicado: (2018) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
por: Tarala, V. A., и др.
Publicado: (2018) -
Schotky barrier height and calculation of voltage–current characteristics of Al/n-(SiC)1–x(AlN)x diodes And 4H–SiC heterojunctions
por: Altukhov, V. I., и др.
Publicado: (2020)