Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Сохранить в:
Главный автор: | Кузнецова, Е. А. |
---|---|
Формат: | ВКР |
Язык: | Russian |
Опубликовано: |
2018
|
Online-ссылка: | https://dspace.ncfu.ru:443/handle/20.500.12258/2328 |
Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
Схожие документы
-
Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Автор: Кузнецова, Е. А.
Опубликовано: (2018) -
Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrate
Автор: Devitsky, O. V., и др.
Опубликовано: (2020) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
Автор: Tarala, V. A., и др.
Опубликовано: (2018) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
Автор: Tarala, V. A., и др.
Опубликовано: (2018) -
Schotky barrier height and calculation of voltage–current characteristics of Al/n-(SiC)1–x(AlN)x diodes And 4H–SiC heterojunctions
Автор: Altukhov, V. I., и др.
Опубликовано: (2020)