Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Kaydedildi:
Yazar: | Кузнецова, Е. А. |
---|---|
Materyal Türü: | ВКР |
Dil: | Russian |
Baskı/Yayın Bilgisi: |
2018
|
Online Erişim: | https://dspace.ncfu.ru:443/handle/20.500.12258/2328 |
Etiketler: |
Etiketle
Etiket eklenmemiş, İlk siz ekleyin!
|
Benzer Materyaller
-
Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Yazar:: Кузнецова, Е. А.
Baskı/Yayın Bilgisi: (2018) -
Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrate
Yazar:: Devitsky, O. V., ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2020) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
Yazar:: Tarala, V. A., ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2018) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
Yazar:: Tarala, V. A., ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2018) -
Schotky barrier height and calculation of voltage–current characteristics of Al/n-(SiC)1–x(AlN)x diodes And 4H–SiC heterojunctions
Yazar:: Altukhov, V. I., ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2020)