Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Збережено в:
Автор: | Кузнецова, Е. А. |
---|---|
Формат: | ВКР |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
2018
|
Онлайн доступ: | https://dspace.ncfu.ru:443/handle/20.500.12258/2328 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Схожі ресурси
-
Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
за авторством: Кузнецова, Е. А.
Опубліковано: (2018) -
Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrate
за авторством: Devitsky, O. V., та інші
Опубліковано: (2020) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
за авторством: Tarala, V. A., та інші
Опубліковано: (2018) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
за авторством: Tarala, V. A., та інші
Опубліковано: (2018) -
Schotky barrier height and calculation of voltage–current characteristics of Al/n-(SiC)1–x(AlN)x diodes And 4H–SiC heterojunctions
за авторством: Altukhov, V. I., та інші
Опубліковано: (2020)