Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Đã lưu trong:
Tác giả chính: | Кузнецова, Е. А. |
---|---|
Định dạng: | ВКР |
Ngôn ngữ: | Russian |
Được phát hành: |
2018
|
Truy cập trực tuyến: | https://dspace.ncfu.ru:443/handle/20.500.12258/2328 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Những quyển sách tương tự
-
Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Bằng: Кузнецова, Е. А.
Được phát hành: (2018) -
Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrate
Bằng: Devitsky, O. V., et al.
Được phát hành: (2020) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
Bằng: Tarala, V. A., et al.
Được phát hành: (2018) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
Bằng: Tarala, V. A., et al.
Được phát hành: (2018) -
Schotky barrier height and calculation of voltage–current characteristics of Al/n-(SiC)1–x(AlN)x diodes And 4H–SiC heterojunctions
Bằng: Altukhov, V. I., et al.
Được phát hành: (2020)