Определение толщины эпитаксиальных слоев и ширины запрещенной зоны полупроводников методом ИК Фурье-спектрометрии Учебно-методическая литература
Сохранить в:
| Главный автор: | Величко А.А |
|---|---|
| Формат: | Учебно-методическая литература |
| Online-ссылка: | https://znanium.com/catalog/document?id=2771 https://znanium.com/cover/0546/546011.jpg |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
Схожие документы
-
Определение толщины эпитаксиальных слоев и ширины запрещенной зоны полупроводников методом ИК Фурье-спектрометрии учебно-методическое пособие
Автор: Величко, А. А. -
Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозиций учебно-методическое пособие
Автор: Кожитов, Л. В. -
Выращивание эпитаксиальных слоев арсенида галлия методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений описание лабораторной работы
Опубликовано: (1999) -
Исследование зависимости сопротивления полупроводника от температуры и определение ширины запрещенной зоны Eg кремния: методические указания к лабораторной работе
Автор: Иванова Е. И.
Опубликовано: (2012) -
Определение ширины запрещенной зоны полупроводника по температурной зависимости обратного тока диода: Руководство к лабораторной работе для студентов всех специальностей
Автор: Лячин А. В.
Опубликовано: (2023)