Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Сохранить в:
| Главные авторы: | , |
|---|---|
| Format: | Bog |
| Udgivet: |
НБ СевКавГТУ
|
| Tags: |
Tilføj Tag
Ingen Tags, Vær først til at tagge denne postø!
|
| Summary: | Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. |
|---|