Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Saved in:
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Book |
| Published: |
НБ СевКавГТУ
|
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Summary: | Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. |
|---|